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Willkommen bei der AG Oberflächenphysik

Allgemeiner Überblick

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In der Arbeitsgruppe wird die geometrische, elektronische, vibronische und magnetische Struktur von Nanostrukturen und dünnen Schichten auf Halbleiter- oder Oxidoberflächen untersucht. Von besonderem Interesse sind dabei die Dynamik der Entstehungsprozesse der Strukturen,  Wachstum-,  Adsorptions- und Diffusionsprozesse. Technologische Zielsetzung ist dabei, Schichten oder Nanostrukturen mit vorgegebenen strukturellen, magnetischen oder chemischen Eigenschaften herzustellen.
Die wesentliche strukturelle Messmethode ist dabei die Rastertunnelmikroskopie (STM). Die Abbildung der Proben im STM erfolgt direkt im Ultrahochvakuum während der Abscheidung mittels Molekularstrahlepitaxie (MBE) oder reaktiver Abscheidung aus der Gasphase (CVD). Die Messungen können unter Wachstumsbedingungen bei Temperaturen bis 800°C "in-situ" stattfinden. Die Oberfläche wird während des Wachstums zeitaufgelöst beobachtet, wodurch man Bildsequenzen von Wachstums- und Strukturbildungsprozessen erhält.
Chemische Information über den Zustand von Adsorbaten an der Oberfläche werden mittels hochauflösender Elektronenenergieverlust-Spektroskopie (HR-EELS) erhalten. Die Schwingungsmoden adsorbierter Moleküle zusammen mit den Ergebnissen der Rastertunnelmikroskopie erlauben eine genaue Charakterisierung der Bindungsverhältnisse von Molekülschichten auf Oberflächen. Magnetische Eigenschaften von Nanostrukturen können direkt während der Herstellung im Ultrahochvakuum mittels des Magnetooptischen Kerr-Effekts (MOKE) untersucht werden. Die Methode kann in-situ auch ortsaufgelöst in Form von Kerr-Mikroskopie angewandt werden, um magnetische Domänenstrukturen abzubilden.
Weitere experimentelle Möglichkeiten der Gruppe stellen die Augerelektronen-Spektroskopie, Beugung langsamer Elektronen (LEED), hochauflösendes LEED (SPA-LEED) dar.


Arbeitsgruppenleiter

Prof. Koehler

Prof. Dr. Ulrich Köhler
NB 4/ 166
Universitätsstraße 150
44801 Bochum
Tel.: +49 234 32 23651
Fax: +49 234 32 14173
E-Mail: Ulrich.Koehler at rub.de


 

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