Experimentalphysik IV - AG Oberflächen

In der Arbeitsgruppe Oberflächenphysik wird die geometrische Struktur von Oberflächen und die Dynamik von Prozessen auf Oberflächen wie Wachstum oder Diffusion untersucht. Die wesentliche Meßmethode dabei ist die Rastertunnelmikroskopie. Die Proben werden dabei nicht extern beschichtet; stattdessen erfolgt die Abscheidung direkt im RTM mittels Molekularstrahlepitaxie (MBE) oder reaktiver Abscheidung aus der Gasphase (CVD). Die Messungen finden unter Wachstumsbedingungen (Druck und Temperatur) "in-situ" statt. Die Oberfläche wird während des Wachstums zeitaufgelöst beobachtet, wodurch wir Bildsequenzen (Movies) von Wachstumsprozessen erhalten. Die hohen experimentellen Anforderungen an das RTM ändern sich mit dem zu untersuchenden System. Daher werden keine kommerziellen Geräte sondern ein selbst entworfener Rastertunnelmikroskop-Typ verwendet. Weitere experimentelle Möglichkeiten der Gruppe zur Untersuchung von Oberflächen sind Augerelektronen-Spektroskopie, Beugung langsamer Elektronen (LEED), hochauflösendes LEED (SPA-LEED) und Thermodesorptionsspektroskopie (TDS).